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你知道微弧氧化技术工艺是怎样一个流程吗?接下来日照微弧技术有限公司给大家着重介绍一下微弧氧化技术工艺的流程,一起来看一下吧
微弧氧化技术工艺流程主要包含三个部分:1.铝基材料的前处理,2.微弧氧化,3.后处理三部分
微弧氧化技术其工艺流程如下:铝基工件→化学除油→清洗→微弧氧化→清洗→后处理→成品检验。
微弧氧化技术特点
1. 提高材料表面硬度
微弧氧化膜层为表面多孔(孔径为几微米)、内部致密的陶瓷层。膜层硬度高(维氏硬度可由几百至三千左右) 膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。
2. 高耐磨性
用WC做摩擦副,摩擦率为4.9*10 -7mm3/Nm,摩擦系数0.48 提高50倍左右。
3. 高耐蚀性
耐中性盐雾腐蚀(按)≥400h ,镁合金微弧氧化黑色膜,可做至≥800h膜层无明显腐蚀。
微弧氧化工艺流程
1、预处理
预处理的原因是由于铝、铁等合金长时间放置在空气中,表面易发生氧化,镁合金微弧氧化,生成一层几个微米的钝化膜,同时,镁合金微弧氧化技术,其表面又极易吸附周围环境中的杂质,镁合金微弧氧化加工厂,形成表面吸附层。为保证微弧氧化后制得陶瓷膜的综合力学性能,在微弧氧化处理前要对试样表面进行预处理。
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