微弧氧化技术 参数-日照微弧技术(在线咨询)-微弧氧化技术

微弧氧化的起源

微弧氧化(MAO)是一种在轻金属表面原位生长陶瓷氧化膜的新技术。美国五十年代在某些兵工厂开始研究阳极火花沉积，前苏联从七十年代中期开始独立研究微弧氧化且具较高水平，微弧氧化技术实验，八十年代中、后期以来微弧氧化研究已成为国际研究热点并开始应用，九十年代初国内开始起步。微弧氧化在航空、航天、机械、电子、装饰等领域有广泛应用前景。

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微弧氧化技术的发展

微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院（低能核物理研究所）（北京市辐射中心）1992年起开发的科研课题，微弧氧化技术，先后得到国家教委、国家九五863高技术研究发展计划、国家自然科学基jin的大力支持。1997-1998年完成国家“863”计划项目“等离子体微弧氧化表面改性技术”，1997年12月“铝合金微弧氧化技术”通过国家教委和863组的联合鉴定。2002年微弧氧化设备获得国家重点新产品证书，2004年微弧氧化双极性大功率脉冲电源获得发明。