微弧氧化技术-日照微弧氧化生产线-表面微弧氧化技术

与普通的阳极氧化膜相比， 微弧氧化膜的空隙小，空隙率低，与基质结合紧密， 且在耐蚀、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技术生成的膜层综合性能优良，与基体结合牢固， 且工艺简单，对环境污染小， 目前对其生长规律、生长机理和影响因素等已经有了较为深入的研究， 在工业上得到了一定的应用， 是一种具有发展潜力的镁合金表面处理技术。微弧氧化技术在现代工业中应用汇越来越广泛。

微弧氧化膜层的性能能够达到何种程度？

一般来讲，微弧氧化膜层是瞬间高温下生成的内部致密的陶瓷层，微弧氧化技术，膜层均具有良好的膜基结合力、硬度、耐磨耐腐蚀特性、高的绝缘性及耐高温氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工艺下制备的膜层性能也有差异。如，一般情况下，铝表面制备的膜层比镁合金表面制备的膜层具有更高的硬度和耐磨性，铝合金微弧氧化技术，因为从生成物来看，氧化铝硬度及耐磨性均高于氧化镁，铝表面氧化膜硬度高可以达到HV3000。但是通常单纯考虑这种极限性能并不可取，如单纯提高膜层的硬度，可能需提高膜层厚度，降低膜基结合力，对膜层整体性能不利。

因此，一般很少单独强调某种性能。只是如果有特殊要求，可以提出，整体加以调制，在满足特殊需求的基础上使膜层整体具有良好性能。如，某镁合金需要耐蚀，可以根据需求对膜层厚度、溶液成分等进行调制，满足耐蚀400小时、600小时等特殊需求。

微弧氧化膜层生长发育时，先在基体表面产生放热反应，转化成一层阳极处理膜。当扩大反映电压时，膜层厚度会进一步增加，再次增加电压，厚度会随着增加。可是当反映电压增加到一定水平时，膜层会因为不可以承担该工作电压产生充放电且热击穿，表面微弧氧化技术，造成低温等离子充放电。反映的高溫将使膜层产生熔化，基体原素因为处于富氧自然环境中，将产生化合物。另外因为是在锂电池电解液中，微弧氧化技术要求，熔化物将一瞬间冷凝器，在基体表面转化成一层瓷器。陶瓷膜的转化成，将造成工作电压进一步上升，膜层再度被热击穿，膜层厚度进一步增加。循环反复，膜层足以生长发育。