镁合金微弧氧化工艺-日照微弧技术(在线咨询)-镁合金微弧氧化

微弧氧化采用较高的工作电压，将工作区域由普通阳极氧化的法拉第区域引入到高压放电区域。采用该技术可在铝、镁合金表面生长一层致密的陶瓷膜，这层保护膜 与基体结合力强、尺寸变化小，镁合金微弧氧化着色，耐磨损、耐腐蚀、耐热冲击及绝缘性能得到极大改善，在航空、航天、机械、电子、装饰等领域有广泛应用前景。微弧氧化技术、微弧氧化电源、微弧氧化生产线

微弧氧化膜的优势

微弧氧化膜与普通阳极氧化膜相比， 这种膜的空隙率大大降低，从而使耐蚀性和耐磨性有了较大提高。目前，微弧氧化技术主要应用于Al、Mg、Ti 等有色金属或其合金的表面处理中。镁合金微弧氧化技术所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相组成，总膜厚可达100 Lm以上， 具有明显的三层结构: 外部的疏松层、中间的致密层和内部的结合层。

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微弧氧化电源性能指标

微弧氧化电源采用的双极性大功率脉冲电源，具有、运行稳定、噪声低、对电网干扰小等优点。微弧氧化电源已获得国家发明，镁合金微弧氧化，其特征在于采用多重电网滤波器和变压器隔离的三相平衡供电，利用功率开关元件进行斩波变换，获得脉冲宽度连续可调的大功率正、负脉冲。

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