镁合金微弧氧化封孔-日照微弧氧化工艺-镁合金微弧氧化

ZL205A微弧氧化膜层耐蚀性能研究

利用硅酸盐复合电解液体系，镁合金微弧氧化，在ZL205A上采用微弧氧化法制备膜层。

所用的工艺参数为：恒流控制，电流密度3 A/dm^2，镁合金微弧氧化封孔，频率500 Hz，终止电压450 V。利用扫描电镜对该膜层的形貌及结构进行分析；对膜层的化学成分进行分析；采用极化曲线评价膜层的耐蚀性。

结果表明：所制备的微弧氧化膜层能提高ZL205A的耐蚀性。

微弧氧化技术特点

1. 提高材料表面硬度

微弧氧化膜层为表面多孔（孔径为几微米）、内部致密的陶瓷层。膜层硬度高（维氏硬度可由几百至三千左右） 膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。

2. 高耐磨性

用WC做摩擦副，摩擦率为4.9*10 -7mm3/Nm，摩擦系数0.48 提高50倍左右。

3. 高耐蚀性

耐中性盐雾腐蚀（按）≥400h ，可做至≥800h膜层无明显腐蚀。

在硅酸盐体系中分别添加三氧化钼和钼酸钠，对AZ91D镁合金进行微弧氧化处理，镁合金微弧氧化工艺，对比研究钼质量浓度相同的三氧化钼和钼酸钠对微弧氧化膜耐蚀性的影响。通过TT260涂层测厚仪、SEM和XRD分别检测膜层厚度、表面形貌和物相组成。采用点滴和电化学实验研究膜层的耐蚀性。

结果表明：电解液中加入钼质量浓度相同的MoO3和Na2MoO4后，膜层点滴耐蚀性均有所降低，但电化学耐蚀性均增加，且二者添加量均为少时膜层耐蚀性更佳。