微弧氧化电源参数-微弧氧化电源-日照微弧养护技术(查看)

为探究工艺参数对铝合金微弧氧化膜层中蛇纹石含量的影响，表面处理微弧氧化电源，采用微弧氧化技术，微弧氧化电源生产厂家，分别在双向恒压、单向恒压和单向恒流模式下，在添加蛇纹石微纳米颗粒的电解液中进行试验，在ZL109铝合金表面原位生长陶瓷层。采用SEM、EDS及XRD对膜层进行分析。

结果表明：在单向恒压和单向恒流模式下制得的微弧氧化膜层的蛇纹石含量相比双向恒压模式分别提高了92%和113%；

你知道微弧氧化技术工艺是怎样一个流程吗？接下来日照微弧技术有限公司给大家着重介绍一下微弧氧化技术工艺的流程，一起来看一下吧

微弧氧化技术工艺流程主要包含三个部分：1.铝基材料的前处理，2.微弧氧化，3.后处理三部分

微弧氧化技术其工艺流程如下：铝基工件→化学除油→清洗→微弧氧化→清洗→后处理→成品检验。

微弧氧化技术特点

1. 提高材料表面硬度

微弧氧化膜层为表面多孔（孔径为几微米）、内部致密的陶瓷层。膜层硬度高（维氏硬度可由几百至三千左右） 膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。

2. 高耐磨性

用WC做摩擦副，微弧氧化电源，摩擦率为4.9*10 -7mm3/Nm，摩擦系数0.48 提高50倍左右。

3. 高耐蚀性

耐中性盐雾腐蚀（按）≥400h ，可做至≥800h膜层无明显腐蚀。