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微弧氧化技术的发展

微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院（低能核物理研究所）（北京市辐射中心）1992年起开发的科研课题，小型微弧氧化电源价格，先后得到国家教委、国家九五863高技术研究发展计划、国家自然科学基jin的大力支持。1997-1998年完成国家“863”计划项目“等离子体微弧氧化表面改性技术”，1997年12月“铝合金微弧氧化技术”通过国家教委和863组的联合鉴定。2002年微弧氧化设备获得国家重点新产品证书，2004年微弧氧化双极性大功率脉冲电源获得发明。

镁合金微弧氧化膜层性能检测

镁合金微弧氧化膜层性能检测主要从以下几个方面进行：外观检测、厚度测定、硬度测定、表面处理层与基体结合力、耐蚀性能评价以及耐磨性测定等。经微弧氧化后，微弧氧化电源，借助天然散色光或在日光下目测检验，观察氧化层的孔隙大小、色泽均匀程度、有没有斑点、脱皮等现象。

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微弧氧化膜的优势

微弧氧化膜与普通阳极氧化膜相比，100kw微弧氧化电源， 这种膜的空隙率大大降低，从而使耐蚀性和耐磨性有了较大提高。目前，微弧氧化技术主要应用于Al、Mg、Ti 等有色金属或其合金的表面处理中。镁合金微弧氧化技术所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相组成，总膜厚可达100 Lm以上， 具有明显的三层结构: 外部的疏松层、中间的致密层和内部的结合层。

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