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微弧氧化电解液组成及工艺条件

微弧氧化电解液组成：K2SiO3 5～10g/L，Na2O2 4～6g/L，NaF 0.5～1g/L，CH3COONa 2～3g/L，Na3VO3 1～3g/L；溶液pH为11～13；温度为20～50℃；阴极材料为不锈钢板；电解方式为先将电压迅速上升至300V，微弧氧化生产线出售，并保持5～10s，微弧氧化生产线，然后将阳极氧化电压上升至450V，电解5～10min。

两步电解法，靠前步：将铝基工件在200g/L的钾水玻璃水溶液中以1A/dm2的阳极电流氧化5min；第二步：将经靠前步微弧氧化后的铝基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的阳极电流氧化15min。阴极材料为：不锈钢板；溶液温度为20～度为20～50℃微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化生产线

液体成分对微弧氧化的影响

电解液成分是得到合格膜层的关键因素。微弧氧化液一般选用含有一定金属或非金属氧化物碱性盐溶液，如硅酸盐、磷酸盐、硼酸盐等。在相同的微弧电解电压下，电解质浓度越大，成膜速度就越快，微弧氧化生产线哪家好，溶液温度上升越慢，反之，成膜速度较慢，溶液温度上升较快。微弧氧化、微弧氧化技术、微弧氧化电源、微弧氧化电源生产线、微弧氧化电液槽

微弧氧化技术

为提高铝材料的表面性能，常用的方法有电镀，微弧氧化生产线价格，激光，阳极氧化等，其中微弧氧化技术是基于阳极氧化发展起来的一种的表面强化处理技术。微弧氧化是把工件放入溶液中施加高电压进行氧化。随着电压的递增，逐步进入火花放电阶段，并通过瞬时高温烧结作用使氧化膜结构发生变化，生成陶瓷膜层。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化技术、微弧氧化工艺