镁合金微弧氧化加工-日照微弧氧化工艺-镁合金微弧氧化

温度对微弧氧化的影响

微弧氧化与阳极氧化不同，所需温度范围较宽。一般为10—90度。温度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且温度高，会形成水气。一般建议在20—60度。由于微弧氧化以热能形式释放，所以液体温度上升较快，微弧氧化过程须配备容量较大的热交换制冷系统以控制槽液温度。所以微弧氧化过程中一定要控制好温度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技术、微弧氧化电源

微弧氧化技术特点

1、提高材料表面硬度微弧氧化膜层为表面多孔（孔径为几微米）、内部致密的陶瓷层。 膜层硬度高（维氏硬度可由几百至三千左右） 膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。微弧氧化技术、微弧氧化生产线

2、微弧氧化技术绝缘性好耐热性高，可承受高温使用，镁合金微弧氧化加工厂，范围根据基材熔点温度 有良好的绝缘性能，绝缘电阻膜阻>100MΩ 绝缘耐压>5000V/秒。微弧氧化电源、微弧氧化生产工艺

微弧氧化技术

为提高铝材料的表面性能，镁合金微弧氧化，常用的方法有电镀，激光，镁合金微弧氧化加工，阳极氧化等，其中微弧氧化技术是基于阳极氧化发展起来的一种的表面强化处理技术。微弧氧化是把工件放入溶液中施加高电压进行氧化。随着电压的递增，逐步进入火花放电阶段，并通过瞬时高温烧结作用使氧化膜结构发生变化，生成陶瓷膜层。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化技术、微弧氧化工艺