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微弧氧化时间对表莫粗糙度的影响

微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系，而膜层的增厚过程是在极高的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。在氧化初期，作用在膜层上的能量较低，产生的熔融物颗粒较少，膜层的表面粗糙度较低；随着时间的延长，膜层表面的能量密度逐渐增大，熔融的氧化产物增多，并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下，氧化物冷却凝固，并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中，微弧氧化技术设备，产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多，从而增大了膜层表面的粗糙度。另外，在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程，因此，若时间足够长，膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。

微弧氧化技术主要应用于哪些方面？

目前微弧氧化技术根据其制备的膜层特性，在众多领域有所应用，htc微弧氧化技术，如耐磨、耐腐蚀、耐高温氧化、热阻隔、生物活性、高阻抗等。尚有许多其他方面的应用前景有待于进一步挖掘。如果根据材料本身的应用范围来讲，铝合金可能希望改善其表面耐磨、耐腐蚀等性能，镁合金耐腐蚀性能较差，进行微弧氧化多为提高其表面耐腐蚀性能，生物材料用镁合金需提高其生物相容性。钛合金用于航空航天领域需提高膜层的耐高温性能及耐腐蚀性能，应用于生物材料则通常需改善其生物活性。在一些电子元器件或电场中的器件，微弧氧化技术优点，微弧氧化膜层可提高其绝缘特性。因此，微弧氧化技术应用于何种领域需试环境而论。

微弧氧化的陶瓷膜较阳极氧化膜在防腐蚀、耐磨性、电绝缘性和装饰性等方面都有明显的改善和提高，但并不意味着微弧氧化就属于市场的专有产物。事实上，微弧氧化技术，微弧氧化正体现出非常明显的普及趋势。微弧氧化由于具有工艺简单、占地面积小、、效果强、适合规模生产，又对环境污染小，因此目前在诸多行业都处于蓬勃发展的时期。可以预见在未来的轻金属领域，微弧氧化工艺也将会迎来大规模应用的时代。微弧氧化生产线、微弧氧化技术、微弧氧化电源