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微弧氧化时间对表莫粗糙度的影响

微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系，而膜层的增厚过程是在极高的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。在氧化初期，作用在膜层上的能量较低，产生的熔融物颗粒较少，膜层的表面粗糙度较低；随着时间的延长，膜层表面的能量密度逐渐增大，熔融的氧化产物增多，并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下，微弧氧化技术，氧化物冷却凝固，并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中，产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多，从而增大了膜层表面的粗糙度。另外，在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程，因此，若时间足够长，htc微弧氧化技术，膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。

微弧氧化是利用弧光放电增强并在阳极上发生的反应，微弧氧化电源、从而在以铝、钛、镁等金属及其合金为材料的工件表面形成的强化陶瓷膜的方法，在轻金属表面形成一层氧化膜，具有一定的耐磨耐腐蚀的作用。微弧氧化生产线、在高温、电场等因素的作用下，微弧氧化技术。

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微弧氧化处理技术的优势

选用微弧氧化技术对铝以及合金制品开展表面加强解决，具备加工工艺全过程简易，占地小，手机壳微弧氧化技术，解决能力强，生产制造率，适用大工业化生产等优势。微弧氧化解决后的铝基表面陶瓷膜层具备强度高，耐蚀性强，介电强度好，膜层与肌底金属材料结合性强，并具备非常好的耐磨损和耐高温冲击性等性能。

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