实验微弧氧化电源-微弧氧化电源-日照微弧(查看)

微弧氧化处理技术的优势

选用微弧氧化技术对铝以及合金制品开展表面加强解决，具备加工工艺全过程简易，占地小，微弧氧化电源，解决能力强，微弧氧化电源用途，生产制造率，适用大工业化生产等优势。微弧氧化解决后的铝基表面陶瓷膜层具备强度高，实验微弧氧化电源，耐蚀性强，小型微弧氧化电源，介电强度好，膜层与肌底金属材料结合性强，并具备非常好的耐磨损和耐高温冲击性等性能。

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微弧氧化技术特点

（1）氧化膜具有陶瓷结构特征。

（2）原位生长。

（3）氧化膜均匀增厚。

（4）无污染：无环保限制元素加入，基本无废水排放。

制备工艺简单。

（5）表面硬度高，显微硬度在400至1500HV；

（6）耐磨损性能与硬质合金相当；

（7）耐腐蚀性能：盐雾试验铝合金1000－2000小时 ；镁

合金经封孔后耐盐雾可达1000小时以上。

（8）耐热性能：300℃水中淬火35次未见变化，1300℃

冲击5次不脱落、不龟裂。

（9）绝缘性能：膜厚不同，表面电阻达  109－12Ω

微弧氧化膜具有特殊的多孔质结构，使得它在金属材料功能化方面有着巨大的应用潜力，如在微弧氧化膜的细孔中填充润滑性物质，可以作为性能优良的减摩抗磨材料。影响微弧氧化膜生长和性能的因素很多，有待于系统而深入地研究，以弄清楚各因素对膜性能的影响规律，使得不同性能要求下的微弧氧化工艺更具有可重现性。　微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化生产线