镁合金微弧氧化着色-镁合金微弧氧化-日照微弧氧化电源

       微弧氧化产生的高温高压特性可使铝合金表面氧化膜发生相转变和结构转变。在微弧氧化的过程下，原来生产的氧化膜不会脱落，只有表面一部分氧化膜可能会被粉化而沉淀在溶液中，脱落的表面可以继续氧化，随着外加电压的升高，或时间的延长，镁合金微弧氧化，微弧氧化膜厚度会不断增加，直至达到外加电压所对应的厚度。经测试，微弧氧化膜的厚度可达到200-300μm。微弧氧化技术优势、微弧氧化设备、微弧氧化电源

      由于微弧氧化是在阳极氧化膜被电ji穿的基础上进行的，所以在探讨微弧氧化机理时我们要结合电ji穿理论的研究和发展，从而阐述微弧氧化基本原理。微弧氧化技术就是在电ji穿理论的基础上加以研究和应用的新型表面力一技术。自1932年Betz等观察到电ji穿的现象以来，镁合金微弧氧化加工，许多研究者都对电ji穿产生的原因 过各种各样的假设和模型。总体上看，电ji穿理论经历了离子电流机理、热作用机理、机械作用机理以及电子雪崩机理等不同的发展阶段。了解电ji穿原理，对于研究微弧氧化机理，开发新的表面处理技术均有着重要的理论意义。

微弧氧化

       在微弧氧化过程中，化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在，镁合金微弧氧化着色，因此陶瓷层的形成过程非常复杂，镁合金微弧氧化封孔，至今还没有一个合理的模型能全描述陶瓷层的形成。微弧氧化工艺将工作区域由普通阳极氧化的法拉第区域引入到高压放电区域，克服了硬质阳极氧化的缺陷，极大地提高了膜层的综合性能。微弧氧化膜层与基体结合牢固，结构致密，韧性高，具有良好的耐磨、耐腐蚀、耐高温冲击和电绝缘等特性。