微弧氧化电源如何控制-微弧氧化电源-日照微弧

微弧氧化采用较高的工作电压，将工作区域由普通阳极氧化的法拉第区域引入到高压放电区域。采用该技术可在铝、镁合金表面生长一层致密的陶瓷膜，这层保护膜 与基体结合力强、尺寸变化小，耐磨损、耐腐蚀、耐热冲击及绝缘性能得到极大改善，在航空、航天、机械、电子、装饰等领域有广泛应用前景。微弧氧化技术、微弧氧化电源、微弧氧化生产线

微弧氧化的原理

微弧氧化通过让氧与铝结合，使铝合金（轻质但硬度、耐蚀性不足）表面原位生成一层氧化铝陶瓷，使其表面变得质硬且耐蚀，进而达到了延长材料使用寿命的目的。同时，微弧电子学又是一种新型‘塑形’技术，通过负电性等离子体对材料进行纳米尺度选取剥离，实现以非接触式方式加工出精密零件，具有广阔的应用前景。微弧氧化技术、微弧氧化生产线、微弧氧化电源

微弧氧化膜层的性能能够达到何种程度？

一般来讲，微弧氧化膜层是瞬间高温下生成的内部致密的陶瓷层，膜层均具有良好的膜基结合力、硬度、耐磨耐腐蚀特性、高的绝缘性及耐高温氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工艺下制备的膜层性能也有差异。如，一般情况下，铝表面制备的膜层比镁合金表面制备的膜层具有更高的硬度和耐磨性，微弧氧化电源指标，因为从生成物来看，微弧氧化电源如何控制，氧化铝硬度及耐磨性均高于氧化镁，铝表面氧化膜硬度高可以达到HV3000。但是通常单纯考虑这种极限性能并不可取，如单纯提高膜层的硬度，可能需提高膜层厚度，降低膜基结合力，对膜层整体性能不利。

因此，一般很少单独强调某种性能。只是如果有特殊要求，可以提出，整体加以调制，微弧氧化电源，在满足特殊需求的基础上使膜层整体具有良好性能。如，某镁合金需要耐蚀，可以根据需求对膜层厚度、溶液成分等进行调制，满足耐蚀400小时、600小时等特殊需求。